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一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置
一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置
【申请公布号：CN108842137A；申请权利人：湖南玉丰真空科学技术有限公司;发明设计人：刘光斗; 舒逸; 李赞;】
摘要：
本发明公开了一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构，传输机构包括多根穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室外的传动杆外套有波纹管，传动杆一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，两块安装板上的马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，平移机构包括平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与安装板连接。本发明实现了同一真空室环境下对多个基片架进行往返传输，缩短了真空设备的长度，提高了生产效率。
主权项：
1.一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：包括传输机构和平移机构，所述传输机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室侧板与安装板之间的传动杆外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板密闭连接，在传动杆其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板上各安装有一马达，马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；所述平移机构包括安装在真空室底板上的平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，所述平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与所述传输机构中的一块安装板连接，所述平移导向装置包括与真空室底板连接的直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
要求：
1.一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：包括传输机构和平移机构，
所述传输机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室侧板与安装板之间的传动杆外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板密闭连接，在传动杆其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板上各安装有一马达，马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；
所述平移机构包括安装在真空室底板上的平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，所述平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与所述传输机构中的一块安装板连接，所述平移导向装置包括与真空室底板连接的直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
2.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：所述传动杆与安装板之间通过磁流体密封装置连接。
3.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：所述传动杆与真空室侧板之间通过直线轴承连接。
4.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：在真空室进入口及进出口边的传动杆上的摩擦轮数量是其他传动杆摩擦轮数量的两倍，其摩擦轮的位置与其他传动杆摩擦轮的位置相对应。
5.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：在安装板上还设有同步带张紧轮。
一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，具体说，是一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置。
背景技术
真空镀膜生产线是在同一水平平面上分布有多个真空箱体，被镀玻璃在传送装置的输送下，经过每一个真空箱体进行处理，实现表面镀膜。现有被镀玻璃传送采用的有两种传输方式，一种是采用直线式传输方式，一端进一端出，另一种是采用回传模式，进出都在同一端，但是这两种模式传输的基片进出是在不同的真空室完成的，这样使得真空室的数量增加，相应的真空抽气系统会明显增加。
发明内容
针对上述现有技术中存在的技术问题，本发明提供一种能实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返独立传输的基片架传送装置。
本发明采用的技术方案如下：一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构，所述传输机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室侧板与安装板之间的传动杆外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板密闭连接，在传动杆其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板上各安装有一马达，马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；所述平移机构包括安装在真空室底板上的平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，所述平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与所述传输机构中的一块安装板连接，所述平移导向装置包括与真空室底板连接的直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。所述平移机构在平移马达的驱动下可带动所述传输机构整体横向往返移动。
进一步地，所述传动杆与安装板之间通过磁流体密封装置连接。
进一步地，所述传动杆与真空室侧板之间通过直线轴承连接。
进一步地，在真空室进入口及进出口边的传动杆上的摩擦轮数量是其他传动杆摩擦轮数量的两倍，其摩擦轮的位置与其他传动杆摩擦轮的位置相对应。
进一步地，在安装板上还设有同步带张紧轮。
本发明的有益效果是：本发明解决了多个基片架在单箱体真空环境下的平移互换功能，能实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返传输，并且可以实现每个基片架的独立传输，该装置在整个工作过程中不会造成真空度的变化，缩短了整个真空设备的长度，缩减了整个系统的占用空间，提高了设备的生产效率。
附图说明
图1是本发明的俯视结构示意图。
图2是图1中A侧结构示意图。
图3是图1中B侧结构示意图。
图4是本发明的截面图。
图5是本发明的立体结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。
如图1—图5所示，本实施例的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构。所述传输机构包括多根穿过真空室两侧侧板101的传动杆201，传动杆201与真空室侧板101之间通过直线轴承203连接，传动杆201的两端分别安装在两块安装板205上，传动杆201与安装板205之间通过磁流体密封装置207连接。在真空室与安装板205之间的传动杆外套有波纹管204，波纹管204两端分别与真空室侧板101以及安装板205密闭连接，在传动杆201其中一端的末端安装有同步带轮206，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板205上各安装有一马达208，马达208通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在安装板上还设有同步带张紧轮209。在真空室内的传动杆201上装有两个摩擦轮202，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；在真空室进入口及进出口边的传动杆201上设有四个摩擦轮202，其摩擦轮的位置与其他传动杆上的摩擦轮的位置相对应。
所述平移机构包括安装在真空室底板102上的平移马达301、丝杠302、丝杠螺母303、平移导向装置4，所述平移马达301通过同步带与丝杠302连接，丝杠螺母303通过连接杆304与所述传输机构中的一块安装板205连接，所述平移导向装置4包括与真空室底板102连接的直线滑轨401以及固定住安装板205上与直线滑轨401配合的滑块402。
所述平移机构在平移马达的驱动下可带动所述传输机构横向往返移动。
本发明的工作过程如下：
2套新基片架通过真空室进出口进入该传送装置，A侧/B侧摩擦轮处于中间位置承接进入的2套新基片架，两侧马达同时正向转动使得2套新基片架进入真空室，通过平移马达驱动整个传输机构在真空环境下由B侧/A侧移向到A侧/B侧， 2套新基片架停留在A侧/B侧的摩擦轮上，使得靠近B侧/A侧的摩擦轮移动至中间位置。真空室进入口连接工艺腔室，在工艺腔室完成镀膜后的2套基片架通过两侧马达各自单独的反向转动，先后进入B侧/A侧的摩擦轮上，这样该传送装置上面就有4套基片架（2套新基片架+2套完成镀膜后的基片架），然后再通过平移马达驱动整个传输机构在真空环境下由A侧/B侧移向到B侧/A侧，这样2套新基片架的移动至中间位置，通过两侧马达各自单独的正向转动，驱动2套新基片架先后独立进入工艺腔室来完成镀膜工艺。在当2套新基片架最后一个进入工艺腔室的后，平移马达驱动整个传输机构由B侧/A侧移向到A侧/B侧，使得之前完成镀膜的2套基片架停留在中间位置，通过两侧马达同时反向转动，完成镀膜的基片架同时由进出口离开真空室，与此同时工艺腔室的2套完成镀膜的新基片架可以通过两侧马达反向转动同时移动到A侧/B侧摩擦轮上面，然后真空室重新进入了2套新的基片架，又开始上面的工作流程进行循环。
在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本发明所属领域的技术人员将会想到本发明的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本发明不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。
【申请公布号：CN108842137A；申请权利人：湖南玉丰真空科学技术有限公司;发明设计人：刘光斗; 舒逸; 李赞;】
摘要：
本发明公开了一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构，传输机构包括多根穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室外的传动杆外套有波纹管，传动杆一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，两块安装板上的马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，平移机构包括平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与安装板连接。本发明实现了同一真空室环境下对多个基片架进行往返传输，缩短了真空设备的长度，提高了生产效率。
主权项：
1.一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：包括传输机构和平移机构，所述传输机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室侧板与安装板之间的传动杆外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板密闭连接，在传动杆其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板上各安装有一马达，马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；所述平移机构包括安装在真空室底板上的平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，所述平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与所述传输机构中的一块安装板连接，所述平移导向装置包括与真空室底板连接的直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
要求：
1.一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：包括传输机构和平移机构，
所述传输机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室侧板与安装板之间的传动杆外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板密闭连接，在传动杆其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板上各安装有一马达，马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；
所述平移机构包括安装在真空室底板上的平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，所述平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与所述传输机构中的一块安装板连接，所述平移导向装置包括与真空室底板连接的直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
2.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：所述传动杆与安装板之间通过磁流体密封装置连接。
3.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：所述传动杆与真空室侧板之间通过直线轴承连接。
4.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：在真空室进入口及进出口边的传动杆上的摩擦轮数量是其他传动杆摩擦轮数量的两倍，其摩擦轮的位置与其他传动杆摩擦轮的位置相对应。
5.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，其特征在于：在安装板上还设有同步带张紧轮。
一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，具体说，是一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置。
背景技术
真空镀膜生产线是在同一水平平面上分布有多个真空箱体，被镀玻璃在传送装置的输送下，经过每一个真空箱体进行处理，实现表面镀膜。现有被镀玻璃传送采用的有两种传输方式，一种是采用直线式传输方式，一端进一端出，另一种是采用回传模式，进出都在同一端，但是这两种模式传输的基片进出是在不同的真空室完成的，这样使得真空室的数量增加，相应的真空抽气系统会明显增加。
发明内容
针对上述现有技术中存在的技术问题，本发明提供一种能实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返独立传输的基片架传送装置。
本发明采用的技术方案如下：一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构，所述传输机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室侧板与安装板之间的传动杆外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板密闭连接，在传动杆其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板上各安装有一马达，马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；所述平移机构包括安装在真空室底板上的平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，所述平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与所述传输机构中的一块安装板连接，所述平移导向装置包括与真空室底板连接的直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。所述平移机构在平移马达的驱动下可带动所述传输机构整体横向往返移动。
进一步地，所述传动杆与安装板之间通过磁流体密封装置连接。
进一步地，所述传动杆与真空室侧板之间通过直线轴承连接。
进一步地，在真空室进入口及进出口边的传动杆上的摩擦轮数量是其他传动杆摩擦轮数量的两倍，其摩擦轮的位置与其他传动杆摩擦轮的位置相对应。
进一步地，在安装板上还设有同步带张紧轮。
本发明的有益效果是：本发明解决了多个基片架在单箱体真空环境下的平移互换功能，能实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返传输，并且可以实现每个基片架的独立传输，该装置在整个工作过程中不会造成真空度的变化，缩短了整个真空设备的长度，缩减了整个系统的占用空间，提高了设备的生产效率。
附图说明
图1是本发明的俯视结构示意图。
图2是图1中A侧结构示意图。
图3是图1中B侧结构示意图。
图4是本发明的截面图。
图5是本发明的立体结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。
如图1—图5所示，本实施例的一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构。所述传输机构包括多根穿过真空室两侧侧板101的传动杆201，传动杆201与真空室侧板101之间通过直线轴承203连接，传动杆201的两端分别安装在两块安装板205上，传动杆201与安装板205之间通过磁流体密封装置207连接。在真空室与安装板205之间的传动杆外套有波纹管204，波纹管204两端分别与真空室侧板101以及安装板205密闭连接，在传动杆201其中一端的末端安装有同步带轮206，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板205上各安装有一马达208，马达208通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在安装板上还设有同步带张紧轮209。在真空室内的传动杆201上装有两个摩擦轮202，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆上的摩擦轮对应在同一直线上；在真空室进入口及进出口边的传动杆201上设有四个摩擦轮202，其摩擦轮的位置与其他传动杆上的摩擦轮的位置相对应。
所述平移机构包括安装在真空室底板102上的平移马达301、丝杠302、丝杠螺母303、平移导向装置4，所述平移马达301通过同步带与丝杠302连接，丝杠螺母303通过连接杆304与所述传输机构中的一块安装板205连接，所述平移导向装置4包括与真空室底板102连接的直线滑轨401以及固定住安装板205上与直线滑轨401配合的滑块402。
所述平移机构在平移马达的驱动下可带动所述传输机构横向往返移动。
本发明的工作过程如下：
2套新基片架通过真空室进出口进入该传送装置，A侧/B侧摩擦轮处于中间位置承接进入的2套新基片架，两侧马达同时正向转动使得2套新基片架进入真空室，通过平移马达驱动整个传输机构在真空环境下由B侧/A侧移向到A侧/B侧， 2套新基片架停留在A侧/B侧的摩擦轮上，使得靠近B侧/A侧的摩擦轮移动至中间位置。真空室进入口连接工艺腔室，在工艺腔室完成镀膜后的2套基片架通过两侧马达各自单独的反向转动，先后进入B侧/A侧的摩擦轮上，这样该传送装置上面就有4套基片架（2套新基片架+2套完成镀膜后的基片架），然后再通过平移马达驱动整个传输机构在真空环境下由A侧/B侧移向到B侧/A侧，这样2套新基片架的移动至中间位置，通过两侧马达各自单独的正向转动，驱动2套新基片架先后独立进入工艺腔室来完成镀膜工艺。在当2套新基片架最后一个进入工艺腔室的后，平移马达驱动整个传输机构由B侧/A侧移向到A侧/B侧，使得之前完成镀膜的2套基片架停留在中间位置，通过两侧马达同时反向转动，完成镀膜的基片架同时由进出口离开真空室，与此同时工艺腔室的2套完成镀膜的新基片架可以通过两侧马达反向转动同时移动到A侧/B侧摩擦轮上面，然后真空室重新进入了2套新的基片架，又开始上面的工作流程进行循环。
在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本发明所属领域的技术人员将会想到本发明的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本发明不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。
